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日前,高德紅外工業園二期主樓——1號樓封頂。
項目位于光谷大道與三環線交匯處,總建筑面積為15萬平方米,共32層高150米,功能涵蓋現代化智能辦公、研發實驗及設備生產,計劃2024年5月投入使用。建成后,將進一步提升該公司自主研發能力和品牌影響力,為企業高質量發展打下堅實基礎。
高德紅外股份有限公司成立于1999年,主營產品包括紅外探測器芯片、紅外熱成像光電系統等,2010年在深交所上市,是國內紅外行業領軍企業,2020年全球紅外熱成像儀市場占有率位居第二,擁有三條紅外探測器芯片生產線,年產芯片超百萬片。
高德紅外公司董事長黃立介紹,二期一號樓項目封頂是高德紅外發展歷史上的重要里程碑,將打造成光谷大道新地標、高科技企業總部新標桿。
他表示,如今,高德紅外迎來了科技創新的時代“風口”,面臨歷史上最好的發展機遇。隨著新樓投入使用,下一個十年,公司一定能創造更多“奇跡”,為實現高水平科技自立自強作出新的更大貢獻。
來源 | 高德紅外
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